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GB/T19921-2005 GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法

标准编号:GB/T 19921-2005 时间:2005-09-19 大小:KB 浏览次数:122 下载次数:17
资料名称: GB/T19921-2005 GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法
标准类别: 国家标准
语  言: 简体中文
文件类型: .rar
整理时间: 2005-09-19
授权方式: 免费下载
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标准状态: (仅供参考)
作废日期: (仅供参考)
实施日期: 2006-04-01(仅供参考)
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标准简介: GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法 国家标准(GB) GB/T19921-2005 本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片,也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷,但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能,并与检测时的初始设置有关。

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标准编号: GB/T 19921-2005 正在载入地址
标准名称: 硅抛光片表面颗粒测试方法
英文名称: Test method of particles on silicon wafer surfaces(仅供参考)
替代情况: (仅供参考)
采标情况: SEMI M25-1995 NEQ SEMI M35-0299 NEQ SEMI M50-1101 NEQ ASTM F1620-1996 NEQ ASTM F1621-1996 NEQ(仅供参考)
发布部门: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会(仅供参考)
页  数: 16开, 页数:10, 字数:16千字(仅供参考)
首发日期: 2005-09-19(仅供参考)
复审日期: (仅供参考)
提出单位: 中国有色金属工业协会(仅供参考)
归口单位: 全国有色金属标准化技术委员会(仅供参考)
主管部门: 中国有色金属工业协会(仅供参考)
起草单位: 北京有色金属研究总院(仅供参考)
相关标准: 无相关信息
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