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SJ/T10627-1995 SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法

标准编号:SJ/T 10627-1995 时间:1995-04-22 大小:KB 浏览次数:62 下载次数:10
资料名称: SJ/T10627-1995 SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
标准类别: 行业标准
语  言: 简体中文
文件类型: .rar
整理时间: 1995-04-22
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实施日期: 1995-10-01(仅供参考)
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标准简介: SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 电子行业标准(SJ) SJ/T10627-1995

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标准编号: SJ/T 10627-1995 正在载入地址
标准名称: 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
英文名称: Test methods for oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction(仅供参考)
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