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GB/T20176-2006 GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

标准编号:GB/T 20176-2006 时间:2006-03-27 大小:KB 浏览次数:40 下载次数:9
资料名称: GB/T20176-2006 GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
标准类别: 国家标准
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整理时间: 2006-03-27
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标准状态: (仅供参考)
作废日期: (仅供参考)
实施日期: 2006-11-01(仅供参考)
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标准简介: GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 国家标准(GB) GB/T20176-2006 本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。

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标准编号: GB/T 20176-2006 正在载入地址
标准名称: 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
英文名称: Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials(仅供参考)
替代情况: (仅供参考)
采标情况: IDT ISO 14237:2000(仅供参考)
发布部门: 国家标准化管理委员会(仅供参考)
页  数: 平装16开  页数:20, 字数:32千字(仅供参考)
首发日期: 2006-03-27(仅供参考)
复审日期: (仅供参考)
提出单位: (仅供参考)
归口单位: 全国微束分析标准化技术委员会(仅供参考)
主管部门: 国家标准化管理委员会(仅供参考)
起草单位: 清华大学电子工程系(仅供参考)
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